生物光刻胶制备研究及应用文献综述-综述毕设网

文献综述

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的一种对光特别敏感的混合液体，别名为光致抗蚀剂。

光刻胶对光非常敏感，透过光线，其化学特性就会发生变化，因此把光刻胶涂敷在硅基片上，再经过曝光、显影、刻蚀等工艺，就可以将设计好的图形复刻到硅基片上，因此光刻胶成为了光电信息产业中图形复刻加工技术中的关键性材料，在其行业内得到了广泛的应用。

随着电子工业中集成电路技术的不断发展，芯片器件的特征尺寸在不断的减小，芯片的集成度越来越高，同时体积也越来越小。

作为我国科技界的龙头企业华为，其自研的麒麟系列芯片现在已经达到了5nm的制程，芯片上集成了150多亿个晶体管。

光刻胶的质量和性能对于芯片的光刻工艺有着重要的影响，从最初一块芯片上集成2000个晶体管到现在能集成150亿个晶体管，实现这种爆炸式的性能突破最关键的就是光刻胶材料也在同步发展，只有光刻胶的性能达标，下游产业链才能有更好的发展。

众所周知，光刻胶在半导体芯片领域有着无法替代的重要性，故在光刻胶发明之后，先进入了军事领域，运用到国防高科技设备的加工制作，因此在20世纪90年代时，发达国家一直将光刻胶作为战略物资进行控制，对光刻胶的制作工艺进行技术封锁，甚至将光刻胶列为禁运品。

到目前为止，高端的光刻胶仍然是发达国家的管控对象。

1光刻胶的发展自1925年，美国柯达公司首次将聚乙烯醇和肉桂酸酯用于光学玻璃的光栅蚀刻，即光刻胶的先驱，随后经过数百年的发展，光刻胶的精度也越来越高。

有G线和I线传统紫外光刻胶、深紫外光刻胶（248nm和193nm）和极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）等。

剩余内容已隐藏，您需要先支付 10元 才能查看该篇文章全部内容！立即支付

以上是毕业论文文献综述，课题毕业论文、任务书、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找。